高純度鋁靶材 常規(guī)金屬 濺射靶材 規(guī)格齊全 可設(shè)計(jì)加工

適用于直流二極濺射、三極濺射、四級(jí)濺射、射頻濺射、對(duì)向靶濺射、離子束濺射、磁控濺射等，可鍍制反光膜、導(dǎo)電膜、半導(dǎo)體薄膜、電容器薄膜、裝飾膜、保護(hù)膜、集成電路、顯示器等，相對(duì)其它靶材，鋁靶材的價(jià)格較低，所以鋁靶材是在能滿足膜層的功能前提下的首選靶材料。